锗掺杂二氧化硅膜的紫外光致折变
张乐天, 王健,, 郑杰, 李爱武, 钱颖, 郑伟, 张玉书
吉林大学学报(工学版). 2005 (05):
547-0550.
DOI: “973”国家重点基础研究发展规划项目(G20
摘要
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1958 )
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研究了用火焰水解法制备的掺锗二氧化硅膜在KrF紫外激光下曝光后的结构和光学性质的变化。经过10 min的照射后,在1550 nm处的折射率变化大约为3.41×10-3。采用原子力显微镜分析了曝光过程及膜的表面形貌。结果表明:随着曝光时间的延长,膜的致密性增加,表面粗糙度下降,折射率增大。
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