利用范德堡法在金刚石对顶砧中精确测量样品电阻率

利用范德堡法在金刚石对顶砧中精确测量样品电阻率

吴宝嘉¹,², 韩永昊¹

1. 吉林大学超硬材料国家重点实验室, 长春 130012; 2. 延边大学理学院物理系, 吉林延吉 133002

收稿日期:2008-03-21 修回日期:1900-01-01 出版日期:2008-09-26 发布日期:2008-09-26
通讯作者: 韩永昊

Accurate Resistivity Measurement with Van Der Pauw Method in DAC

WU Bao jia¹,², HAN Yong hao¹

1. State Key Laboratory of Superhard Materials, Jilin University, Changchun 130012, China;2. Department of Physics, College of Science, Yanbian University, Yanji 133002, Jilin Province, China

Received:2008-03-21 Revised:1900-01-01 Online:2008-09-26 Published:2008-09-26
Contact: HAN Yong hao

摘要/Abstract

摘要： 利用有限元分析方法（FEA）对金刚石对顶砧（DAC）中范德堡法测量极微小样品电阻率的误差进行数值模拟与分析, 结果表明, 对于极微小样品, 电极与样品的接触面积是影响电阻率精确测量的重要因素, 测量误差随接触面积的增大而增大, 对半导体材料尤其明显. 当样品厚度与直径的比值小于0.45, 且电极和样品的接触面边长与样品直径的比值小于0.1时, 测量电极是否满足点接触条件, 范德堡法均能给出精确的测量结果. 

关键词: 高压, 金刚石对顶砧, 范德堡, 电阻率, 有限元分析

Abstract: Using finite element analysis, the authors studied the relative error of the van der Pauw method for resistivity measurement in diamond anvil cell (DAC). It was found that the electrode contact area is a key factor affecting the accuracy of the van der Pauw method for resistivity measurement. Always the relative error increases with the increase of contact area, and this is especially obvious for semiconductor samples. But whether the electrodes have point contacts or not, the van der Pauw method would provide accurate result so long as the ratio of sample thickness to its diameter is less than 0.45, and the ratio of the side length of electrode contact area to sample diameter is less than 0.1.

Key words: high-pressure, diamond anvil cell, van der Pauw, resistivity, finite element analysis

中图分类号:

O521.21

吴宝嘉,, 韩永昊. 利用范德堡法在金刚石对顶砧中精确测量样品电阻率[J]. J4, 2008, 46(05): 956-958.

WU Bao jia,, HAN Yong hao. Accurate Resistivity Measurement with Van Der Pauw Method in DAC[J]. J4, 2008, 46(05): 956-958.

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