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一种新型i线化学增幅型光致抗蚀剂材料的制备及性质
徐娜, 孟磊
Synthesis of a Novel Chemically Amplified Resist for i-Line Lithography
XU Na, MENG Lei
吉林大学学报(理学版) . 2014, (
05
): 1073 -1076 .