Fe/Cu巨磁阻多层薄膜的XPS研究

Fe/Cu巨磁阻多层薄膜的XPS研究

郑大方¹，佟富强²，张伟³，葛昕⁴ ，陈旭⁴

1. 吉林大学测试科学实验中心，长春 130023; 2. 吉林大学集成光电子国家重点联合实验室，长春 130023;3. 江南大学信息工程与科学学院，无锡 214063; 4. 吉林大学材料科学与工程学院，长春 130023

收稿日期:2002-06-23 修回日期:1900-01-01 出版日期:2003-01-26 发布日期:2003-01-26
通讯作者: 郑大方

A XPS Study of the Giant Magnetoresistant Multilayers of the Cu/Fe

ZHENG Da-fang¹, TONG Fu-qiang², ZHANG Wei³, G E Xin⁴, CHEN Xu⁴

1. Measurement and Testing Center, Jilin University, Changchun 130023， China;2. State Key United Laboratory on Integrated Optoelectron, Jilin University, Changchun 130023, China;3. College of Information Engineering and Science, Yangtze University, Wuxi 214063, China;4. College of Materials Science and Engineering, Jilin University, Changchun 130023, China

Received:2002-06-23 Revised:1900-01-01 Online:2003-01-26 Published:2003-01-26
Contact: ZHENG Da-fang

摘要/Abstract

摘要： 利用磁控溅射方法在Si衬底上制备了Cu/Fe多层薄膜，采用XPS方法及Ar离子对薄膜样品进行刻蚀. 研究表明, 在多层薄膜的溅射界面存在合金，并观测到溅射层向基体扩散的现象.

关键词: Fe/Cu多层薄膜, 磁控溅射, 合金, 结构分析

Abstract: The Cu/Fe multilayer on Si substrate was prepared by the magnetron sputtering method. The samples have been studied by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). With the sputtering depth increasing, the alloying forms on the interface of Cu/Fe.

Key words: Cu/Fe multilayers, magnetron sputtering, alloying, char acterisation analysis

中图分类号:

TG146.1

郑大方，佟富强，张伟，葛昕，陈旭. Fe/Cu巨磁阻多层薄膜的XPS研究[J]. J4, 2003, 41(01): 91-93.

ZHENG Da-fang, TONG Fu-qiang, ZHANG Wei, G E Xin, CHEN Xu. A XPS Study of the Giant Magnetoresistant Multilayers of the Cu/Fe[J]. J4, 2003, 41(01): 91-93.

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