摘要: 采用磁控溅射技术在SiO2衬底上制备ZnO薄膜, 并通过X射线衍射仪、 原子力显微镜、 紫外\|可见分光光度计和荧光光谱仪对薄膜的晶体结构、 表面形貌、 带隙宽度和光致发光性质进行测试表征, 结合飞秒激光(波长为800 nm, 脉宽50 fs)和\%Z\%扫描方法测量该薄膜的三阶非线性光学特性. 结果表明, 其三阶非线性折
射率和非线性吸收系数均为正值, 分别为3.50×10-18 m2/W和2.88×10-11m/W.
中图分类号:
张继德, 刘成有, 辛春雨, 于卓, 董振江. 磁控溅射ZnO薄膜的三阶非线性光学特性[J]. 吉林大学学报(理学版), 2017, 55(01): 145-149.
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