吉林大学学报(工学版) ›› 2004, Vol. ›› Issue (3): 388-391.

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无磨料低温抛光的均匀性仿真

高春甫, 刘向阳, 王立江, 刘巍娜, 王晓飞   

  1. 吉林大学 机械科学与工程学院, 吉林 长春 130022
  • 收稿日期:2003-07-20 出版日期:2004-07-01
  • 通讯作者: 王立江(1934- ),男,教授,博士生导师.E-mail:5705618@163.com
  • 基金资助:
    国家自然科学基金资助项目(59975043)

Uniformity simulation of abrasiveless cryogenic polishing

GAO Chunfu, LIU Xiangyang, WANG Lijiang, LIU Weina, WANG Xiaofei   

  1. College of Mechanical Science and Engineering, Jilin University, Changchun 130022, China
  • Received:2003-07-20 Online:2004-07-01

摘要: 无磨料低温抛光是一种可获得原子级超光滑表面的新方法。作者首先对加工区进行建模,并分析了冰盘与工件盘在水平面内的相对运动,然后利用Preston方程对工件的抛光均匀性进行了分析,并用数值方法实现了计算机仿真。结果表明:工件盘与冰盘的偏心距越大,工件的抛光均匀性越好。

关键词: 机械设计, 无磨料抛光, 低温抛光, 均匀性, 仿真

Abstract: A process of cryogenic polishing without abrasive to get the atom-level super-smooth surface was introduced.A model for the machining area was proposed,the horizontal relative movement between the ice plate and the parts plate was analyzed. With the Preston equation,the polishing uniformity was analyzed and simulated.The results show that the polishing uniformity is better when the rotate speed of parts plate is near that of the ice plate,and the eccentricity between the ice plate and the parts plate is larger.

Key words: mechanical design, abrasiveless polishing, cryogenic polishing, uniformity, simulation

中图分类号: 

  • TG506.9
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