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处理频率对TC4钛合金微弧氧化膜特性的影响
孟庆国,, 吴汉华, 龙北玉, 李全军, 唐元广, 常 鸿
J4. 2007 (06):
1011-1014.
摘要
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利用自制多功能微弧氧化膜的制备系统对TC4钛合金进行表面处理, 通过扫描电镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)研究脉冲频率(f)对氧化膜生长特性、 表面形貌和相组成的影响. 结果表明, 当f≤2 000 Hz时, 成膜速率随f增加迅速减小; 当2 000 Hz<f<4 000 Hz时, 成膜速率随f增加而减小的趋势变缓; 当f≥4 000 Hz时, 成膜速率不随f发生变化. 该氧化膜表面多孔, 随f的增加, 膜表面微孔尺寸逐渐减少, 微孔密度逐渐增加. 膜层主要由锐钛矿和金红石相TiO2及少量不饱和氧化物TiO2-x(0.02<x<0.07)相组成, 其中锐钛矿和金红石相TiO2的相对含量随f的变化不明显, 而TiO2-x的相对含量当f≤2 000 Hz时较高, 当f>2 000 Hz时, TiO2-x的相含量明显减少.
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计量指标
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