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γ′-Fe4N薄膜的制备及其磁性
王丽丽,, 支文, 赵利军, 王欣, 马楠, 金丹红, 郑伟涛
J4. 2007 (02):
275-278.
摘要
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采用直流磁控溅射方法, 以Ar/N2为放电气体(N2/(Ar+N2)=10%), 在玻璃和NaCl(100)单晶片上分别沉积获得Fe-N薄膜样品. 利用X射线衍射(XRD)、 原子力显微镜(AFM)和超导量子干涉仪(SQUID)对样品的结构、 形貌和磁性能进行分析, 研究基片和基片温度等条件对薄膜的影响. 结果表明, 以NaCl单晶为基片获得单相γ′-Fe4N薄膜, 与玻璃基片相比可降低其生成的基片温度并可扩大形成温度的范围, 且比饱和磁化强度略有增大.
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