利用改进后的对靶磁控溅射系统, 以N2/Ar混合气体为溅射气体, 在未加热的Si(111)衬底上沉积FeCoN薄膜. 采用X射线衍射仪(XRD)、 透射电子显微镜(TEM)、 扫描电子显微镜(SEM)和超导量子干涉仪(SQUID)研究不同Co靶溅射功率对FeCoN薄膜样品的结构、 形貌和磁性性能的影响. 结果表明: 固定Fe靶功率为160 W(电流I=0.4 A), 当Co靶功率为2.4 W(I=0.04 A)时, 薄膜由Co溶入ε-Fe3N中形成的ε-(Fe,Co)3N化合物相构成; 当Co靶功率为58 W(I=0.2 A)时, 获得了Fe3N/Co3N化合物相, 薄膜的饱和磁化强度(Ms)为151.47 A·m2/kg, 矫顽力(Hc)为3.68 kA/m; 当Co靶功率为11.9 W(I=0.07 A)时, 制备出具有高饱和磁化强度的α″-(Fe,Co)16N2化合物相, 薄膜的Ms=265.08 A·m2/kg, Hc=8.24 kA/m.