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氮化硼薄膜的厚度对场发射特性的影响
顾广瑞, 李英爱, 刘艳梅, 陶艳春 , 何 志, 殷 红, 李卫青, 冯伟, 白玉白, 田 野, 赵永年
J4. 2003 (03):
352-355.
摘要
(
232 )
利用射频磁控溅射方法, 在n型(100)Si基底上沉积了不同厚度(54~124 nm)的纳米氮化硼(BN)薄膜. 红外光谱分析表明, BN薄膜结构为六角BN(h-BN)相(1 380 cm-1和780 cm-1)结构. 在超高真空系统中测量了不 同膜厚的场发射特性, 发现阈值电压随着厚度的增加而增大. 厚度为54 nm的BN薄膜样品阈 值电场为10 V/μm, 当外加电场为23 V/μm时, 最高发射电流为240 μA/cm2. BN薄膜场发射F-N曲线表明, 在外加电场作用下, 电子隧穿了BN薄膜表面势垒发射到真空.
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计量指标
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