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激光晶化多晶硅的制备与XRD谱
廖燕平, 黄金英, 郜峰利,4, 邵喜斌, 付国柱, 荆 海, 缪国庆
J4. 2004 (01):
99-102.
摘要
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对氢化非晶硅(a-Si∶H)进行了脱氢和不同能量密
度的准分子激光晶化多晶硅的实验, 对所得样品用X射线衍射表征. 针对多晶硅(111)面特征峰的强度、 晶面间距和宽化信息, 分析了激光功率密度对晶化多晶硅结晶度和应力的影响, 根据谢乐公式(Scherrer)估算了晶粒的大小, 得到用准分子激光晶化多晶硅的较佳工艺参数, 并且验证了激光辐射对薄膜材料作用的3种情况.
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计量指标
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